近期，光谷企業(yè)在半導體專用光刻膠行業(yè)實現(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限機構(gòu)（以下簡叫作“太紫微機構(gòu)”）推出的T150 A光刻膠制品，已經(jīng)過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。

該制品對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)叫作之為“妖膠”的國外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，經(jīng)過驗證發(fā)掘T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

太紫微機構(gòu)成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創(chuàng)立。團隊安身于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)開發(fā)，在電子化學品行業(yè)深耕二十余載。

企業(yè)負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示：“以原材料的研發(fā)為起點，最后得到擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個起始，咱們團隊還會發(fā)展一系列應用于區(qū)別場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內(nèi)關(guān)聯(lián)產(chǎn)業(yè)帶來更加多驚喜。”

太紫微核心開發(fā)團隊成員（前排左一為朱明強教授）

太紫微機構(gòu)致力于半導體專用高端電子化學品材料的研發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術(shù)，同期為材料的分析與驗證供給最全面的手段。

“無論是從國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望將來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻行業(yè)還會有非常多新技術(shù)、新企業(yè)破繭成蝶，但持有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提?！碧衔⑼馄笇＜翌檰?span style="color: green;">暗示。